如同半導體元件製造的微影製程（photolithography），金屬蝕刻製程也需要使用（鹵化銀）底片來當作遮罩（光罩），利用UV曝光到光阻上做影像轉移。被底片遮蔽的光阻，因為沒有受到UV曝光， 因此會被後續的顯影製程清洗掉。光阻被顯影而裸露的不鏽鋼，因為失去光阻的保護，會被蝕刻液腐蝕，而完成蝕刻加工程序。